China Fecral 0Cr15Al5 jalur rintangan aloi oleh kilang Pembuatan dan Kilang

Jalur rintangan aloi Fecral 0Cr15Al5 oleh kilang Imej Pilihan

Jalur rintangan aloi Fecral 0Cr15Al5 mengikut kilang

Penerangan ringkas:

model no.:0Cr15Al5

bentuk:jalur

bahan:besi Chrome aluminium

syarat:anil lembut

warna:terang

Hantar e-mel kepada kami

Butiran Produk

Soalan Lazim

Tag Produk

fecral0Cr15Al5jalur rintangan aloi oleh kilang

Gred	0Cr15Al5
Saiz	ketebalan: 0.05-3mm lebar: 4-250mm
Permukaan	celahan terang
Berat badan	5-200kg/roll, mengikut kuantiti pelanggan
Kerintangan	1.3±0.05μΩ.m
Kekerasan (HV)	180-210HV
Pemanjangan	≥16%

Gred	Suhu tertinggi	Kerintangan	Kekerasan	Kekuatan tegangan	Pemanjangan
0Cr13Al4	1050 ℃	1.25±0.05μΩ.m	180-210HV	≥550N/mm2	≥16
0Cr15Al5	1100 ℃	1.3±0.05μΩ.m	180-210HV	≥550N/mm2	≥16
0Cr21Al6Nb	1300 ℃	1.42±0.05μΩ.m	200-240HV	750N/mm2	≥12
Cr20Ni80	1200 ℃	1.09±0.05μΩ.m	180-220HV	750N/mm2	≥20
Cr15Ni60	1150 ℃	1.12±0.05μΩ.m	175-210HV	750N/mm2	≥20
Cr20Ni35	1100 ℃	1.04±0.05μΩ.m	180-220HV	750N/mm2	≥20
Cr25Ni20	1100 ℃	0.86±0.05μΩ.m	180-220HV	750N/mm2	≥20

Gred	Komposisi kimia%
	C	P	S	Mn	Si	Cr	Ni	Al	Fe
	≤				Si	Cr	Ni	Al	Fe
0Cr15Al5	0.04	0.02	0.01	0.3	≤0.5	13-14	＜1	4.8-5.0	imbangan
0Cr21Al6Nb	0.05	0.025	0.02	0.5	≤0.6	21-23	≤0.6	5-7	imbangan
0Cr13Al4	0.04	0.02	0.01	0.3	≤0.5	13-14	＜1	4.8-5.0	imbangan
Cr20Ni80	0.08	0.02	0.015	0.6	0.75-1.6	20-23	imbangan	<0.5	≤1.0
Cr15Ni60	0.08	0.02	0.015	0.6	0.75-1.6	15-18	55-61	<0.5	imbangan
Cr20Ni35	0.08	0.02	0.015	1.0	1-3	18-21	34-37	-	imbangan
Cr25Ni20	0.08	0.045	0.03	2.0	0.4-0.6	24-26	19-22	-	imbangan

Shanghai Tankii ALloy Material Co.,Ltd. fokus pada pengeluaran aloi nichrome, dawai termokopel, aloi fecral, aloi ketepatan, aloi nikel tembaga, aloi semburan haba dan lain-lain dalam bentuk wayar, lembaran, pita, jalur, rod dan plat.

Kami telah pun mendapat sijil sistem kualiti ISO 9001 dan kelulusan sistem perlindungan alam sekitar ISO 14001. Kami memiliki set lengkap aliran pengeluaran termaju penapisan, pengurangan sejuk, lukisan dan rawatan haba dll. Kami juga berbangga mempunyai kapasiti R&D bebas.