HASTELLOYC4ialah aloi yang terdiri daripada Nikel, kromium dan molibdenum. Ia sangat dianggap sebagai aloi paling versatil untuk memerangi kakisan. Aloi ini menunjukkan ketahanan terhadap pembentukan mendakan sempadan butiran apabila terdedah kepada haba kimpalan, menjadikannya sesuai untuk pelbagai aplikasi proses kimia dalam keadaan kimpalannya. Selain itu, Aloi C4 mempamerkan ketahanan yang luar biasa terhadap lubang, keretakan kakisan tegasan dan atmosfera pengoksidaan sehingga 1900°F. Ia mempunyai ketahanan yang luar biasa terhadap pelbagai persekitaran kimia.
PERMOHONAN:
1. Industri kertas: Loji pencerna dan peluntur.
2. Persekitaran gas masam: Komponen yang terdedah kepada gas masam.
3. Loji penyahsulfuran gas serombong: Peralatan yang digunakan dalam loji penyahsulfuran gas serombong.
4. Persekitaran asid sulfurik: Penyejat, penukar haba, penapis dan pengadun yang digunakan dalam persekitaran asid sulfurik.
5. Reaktor asid sulfurik: Peralatan yang digunakan dalam reaktor asid sulfurik.
6. Proses klorida organik: Peralatan yang digunakan dalam proses klorida organik.
7. Proses pemangkin halida atau asid: Peralatan yang digunakan dalam proses yang menggunakan pemangkin halida atau asid.
| Gred | C276 | C22 | C4 | B3 | N | ||
| Bahan kimia Komposisi (%) | C | ≤0.01 | ≤0.015 | ≤0.015 | ≤0.02 | ≤0.01 | 0.04-0.08 |
| Mn | ≤1 | ≤0.5 | ≤1 | ≤1 | ≤3 | ≤1 | |
| Fe | 4-7 | 2-6 | ≤3 | ≤2 | ≤1.5 | ≤5 | |
| P | ≤0.04 | ≤0.02 | ≤0.04 | ≤0.04 | – | ≤0.015 | |
| S | ≤0.03 | ≤0.02 | ≤0.03 | ≤0.03 | – | ≤0.02 | |
| Si | ≤0.08 | ≤0.08 | ≤0.08 | ≤0.1 | ≤0.1 | ≤1 | |
| Ni | rehat | rehat | rehat | rehat | ≥65 | rehat | |
| Co | ≤2.5 | ≤2.5 | ≤2 | ≤1 | ≤3 | ≤0.2 | |
| Ti+Cu | – | – | ≤0.7 | – | ≤0.4 | ≤0.35 | |
| Al+Ti | – | – | – | – | ≤0.5 | ≤0.5 | |
| Cr | 14.5-16.5 | 20-22.5 | 14-18 | ≤1 | ≤1.5 | 6-8 | |
| Mo | 15-17 | 12.5-14.5 | 14-17 | 26-30 | ≤28.5 | 15-18 | |
| B | – | – | – | – | – | ≤0.01 | |
| W | 3-4.5 | 2.5-3.5 | – | – | ≤3 | ≤0.5 | |
| V | ≤0.35 | ≤0.35 | – | 0.2-0.4 | – | ≤0.5 | |
150 0000 2421