1cr13al4 aloi fecral jalur rata/ jalur lebar yang terang untuk penggunaan perintang

Aloi fecral dan aloi nikel-kromium telah dipilih sebagai bahan rintangan untuk perintang tertanam kerana aloi nikel-kromium mempunyai resistiviti elektrik yang tinggi yang digunakan secara meluas untuk perintang filem nipis [1, 2]. Rintangan lembaran filem aloi nikel-chrome yang mengandungi 20% kromium boleh setinggi 2-3 kilo ohm dan masih mengekalkan kestabilan yang baik. Koefisien suhu 1 rintangan (TCR) untuk aloi nikel-krom pukal adalah kira-kira 110 ppm/° C. Dengan menggilap sedikit silikon dan aluminium dengan nikel-kromium, kestabilan suhu semakin meningkat.

Permohonan:

Resistor yang tertanam dalam papan pendawaian bercetak akan menjadi pemboleh kepada pakej miniatur dengan kebolehpercayaan yang lebih tinggi dan prestasi elektrik yang lebih baik. Mengintegrasikan fungsi perintang ke dalam substrat laminate membebaskan kawasan permukaan PWB yang digunakan oleh komponen diskret, membolehkan peningkatan fungsi peranti dengan penempatan komponen yang lebih aktif. Aloi nikel-kromium mempunyai resistiviti elektrik yang tinggi, yang menjadikannya praktikal untuk digunakan dalam pelbagai aplikasi. Nikel dan kromium dipadamkan dengan silikon dan aluminium untuk meningkatkan kestabilan suhu dan menurunkan pekali terma rintangan. Lapisan rintangan filem nipis berdasarkan aloi nikel-kromium telah didepositkan secara berterusan ke gulungan foil tembaga untuk membuat bahan untuk aplikasi perintang tertanam. Lapisan rintangan filem nipis yang diapit di antara tembaga dan laminate boleh dipilih secara selektif untuk membentuk perintang diskret. Bahan kimia untuk etsa adalah perkara biasa dalam proses pengeluaran PWB. Dengan mengawal ketebalan aloi, nilai rintangan lembaran dari 25 hingga 250 ohm/sq. diperoleh. Makalah ini akan membandingkan dua bahan nikel-kromium dalam metodologi etsa mereka, keseragaman, pengendalian kuasa, prestasi terma, perekatan dan resolusi etsa.